Allgemein

Китайский производитель полупроводников SMIC запускает 7nm процесс в 4 квартале и ожидает 20% улучшения производительности

По данным kkj.cn, 7-нм технологический процесс Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), самого современного и крупного производственного предприятия Китая, начнется с небольшого серийного производства в четвертом квартале. По сравнению с 14 нм, процесс N+1 SMIC улучшает производительность на 20%, снижает энергопотребление на 57%, уменьшает логическую область на 63% и уменьшает площадь SoC на 55%, говорится в докладе доктора Лян Менгсонга, содиректора SMIC.

TSMC и Samsung уже в этом году будут использовать в массовом производстве 5нм процессы, но Китай явно догоняет продвинутые процессы. Крупнейший производитель пластин, SMIC, запустил в серийное производство только 14-нм технологический процесс в конце прошлого года, обеспечив 1% продаж и 7,69 млн. долл. выручки. Но эта технология уже может удовлетворить не менее 95% внутреннего спроса. 14-нанометровые и усовершенствованные 12-нанометровые процессы являются первым поколением FinFET-процессов SMIC. Они также разработали более совершенные N+1, включая N+2 FinFET-процессы, которые несколько схожи с энергосберегающими и мощными версиями 7-нанометрового процесса.

После No 1 будет также N-2. Эти два процесса столь же мощные с точки зрения энергопотребления. Разница заключается в производительности и стоимости. Потому что N-2, очевидно, ориентирована на высокую производительность и, следовательно, расходы будут увеличиваться. Что касается литографического устройства EUV, которое привлекло довольно много внимания, Лян Менгсон сказал, что в нынешних условиях, n-1 и N-2 генерации процессы не будут использовать процесс EUV, и как только это оборудование будет готово, процесс N-2 может также использовать несколько фотомаски. С EUV, следующий процесс затем переключается на эВВ литографии в больших масштабах.

Самый важный вопрос сейчас , когда МРОТ может начать массовое производство в 7 нм. Последние сообщения свидетельствуют о том, что МРОТ НЗ1 FinFET процесс был введен для клиентов (но список клиентов не был объявлен). Производство небольших серий начнется в четвертом квартале этого года, т.е. раньше, чем сообщалось ранее. Для ускорения технологических мощностей капитальные затраты МРОТ в этом году достигнут 3,1 млрд долларов США (годовой оборот компании составляет всего около 3 млрд долларов США), из которых 2 миллиарда долларов будут использованы на 12-дюймовую вафельное фабрику МРОТ в Шанхае и 500 млн долларов на 12-дюймовой вафельной фабрике в Пекине.

Так что это остается захватывающим!

Источник: kkj.com через cntechpost

Danke für die Spende



Du fandest, der Beitrag war interessant und möchtest uns unterstützen? Klasse!

Hier erfährst Du, wie: Hier spenden.

Hier kannst Du per PayPal spenden.

About the author

Igor Wallossek

Chefredakteur und Namensgeber von igor'sLAB als inhaltlichem Nachfolger von Tom's Hardware Deutschland, deren Lizenz im Juni 2019 zurückgegeben wurde, um den qualitativen Ansprüchen der Webinhalte und Herausforderungen der neuen Medien wie z.B. YouTube mit einem eigenen Kanal besser gerecht werden zu können.

Computer-Nerd seit 1983, Audio-Freak seit 1979 und seit über 50 Jahren so ziemlich offen für alles, was einen Stecker oder einen Akku hat.

Folge Igor auf:
YouTube   Facebook    Instagram Twitter